У року од сат времена може уништити до 99,99 одсто бактерија, вируса и других патогена у року од сат од излагања дневном светлу.
Истраживачи сa Универзитета Kалифорнија у Дејвису у САД, дизајнирали су нову маску за лице чија је база материјал који може уништити до 99,99 посто бактерија, вируса и других патогена у року од сат од излагања дневном светлу. Истраживачи су нагласили да се ова маска од посебног памука може прати 10 пута и да се непрекидно може излагати сунчевој светлости најмање седмицу. То неће погоршати њену антимикробну активност. Студија је објављена у часопису ACS Applied Materials and Interfaces.
Истраживачи су намеравали дизајнирати нови памучни материјал који би ослобађао реактивне врсте кисеоника (ROS) када је изложен дневној светлости, убијајући микробе причвршћене на површини. Битно је било да је истовремено може да се пере са би се могао поново користити и бити сигуран за корисника. Тако су антимикробни материјал причврстили позитивно набијеним ланцима 2-диетил аминоетил хлорида (DEAE-Cl) на обични памук.
Они су модификовани памук потопили у раствор негативно наелектрисаног фотосензибилатора – једињена које ослобађа ROS након излагања светлости, а који се снажним електростатичким интеракцијама прикачио на ланац DEAE. Сходно томе, истраживачи су приметили да људи могу дезинфиковати своју платнену маску током ручка напољу на сунцу или проводећи дужи временски период на светлости у канцеларијама или у стану где је мање интензивна она сунчева.
Тим истраживача је приметио да је фотосензибилатор уништио 99,9999 одсто бактерија на материјалу у року од сат времена од излагања дневном светлу и да је инактивирао 99,9999 посто Т7 бактериофага – вируса за који се сматра да је отпорнији на ROS од неких коронавируса – у року од пола сата. „Материјал пружа обећавајуће резултате у изради вишекратних, антибактеријских или антивирусних платнених маски за лице и заштитних одијела”, рекли су истраживачи, а пише Business line.
(Извор Kликс)
